レーザーダイオードのチップ構造ファブリ・ペロー型LD

LDチップ構造

ファブリ・ペロー型LDは、n/pクラッドとこれらに挟まれた活性層 (発光層) と2枚の鏡である端面とで構成されます。

クラッドは活性層よりもバンドギャップが大きい材料であるため、キャリア (電子と正孔) をエネルギー的に閉じ込めてしまいます。さらに、活性層よりも屈折率が小さい材料でもあるために、光も活性層内に閉じ込めてしまいます。 (光ファイバーの原理と同じ)

活性層とクラッドはナノオーダーで制御ができるエピタキシャル成長で生成され、ストライプ (電極) はミクロンオーダーで制御できるフォトリソグラフィで作製します。

ファブリ・ペロー型LD:

最もシンプルなレーザーダイオードの構造です。

エピタキシャル成長:

薄膜結晶成長技術のひとつで、基板となる結晶の上に成長を行い、基板結晶面にそろえた結晶配列で成長させます。

フォトリソグラフィー:

感光性物質を塗布した表面を露光することで、露光された部分とされていない部分からパターンを生成する技術。